Hur löser man ojämnheten i magnetron sputterade filmer?- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

, magnetfältets enhetlighet och riktning bör säkerställas för att bilda ett relativt enhetligt magnetfält.

För det andra bör lufttryckets enhetlighet säkerställas så långt som möjligt. När du utformar vakuumkammaren, installationspositionen för vakuumpumpen, vägen Avdunstningsvakuumbeläggningsmaskinfabrik av processgasintaget och processrörets utformning i kammaren bör övervägas.

För det tredje, eftersom magnetfältet och lufttrycket inte kan vara helt idealiskt, kan magnetfältet kompenseras av lufttryckets ojämnhet för att göra den slutliga filmen enhetlig.

För det fjärde är målbasavstånd också en viktig faktor som påverkar enhetlighet.

Dela: